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2016年度印刷・情報記録・表示研究会研究会シンポジウム 第26回光反応・電子用材料研究会講座
次世代の微細加工技術 〜精密デバイス創成新時代〜
趣旨 高度なIoT社会が到来しつつある現在、電子デバイスのみならず、man-machine interfaceや機械駆動の部材を創成するためにも、新たな精密微細加工技術が求められています。本講座では、この有力候補として注目を集めている技術方式に焦点を当て、基礎開発から実用化までの各領域で研究を進めておられる講師の先生方をお招きし、最新の成果と今後の課題をご講演頂きます。多くの皆様の御参加をお待ちいたしております。

主催 高分子学会 印刷・情報記録・表示研究会および光反応・電子用材料研究会
協賛 日本化学会 応用物理学会
開催日 2017年01月26日 10:00〜16:20
開催場所 東京理科大学 森戸記念館 第二フォーラム
新宿区神楽坂4-2-2

Tel:03-5228-8110
交通 JR総武線/東京メトロ有楽町線・東西線・南北線/都営大江戸線「飯田橋」駅下車徒歩3分
プログラム 10:00〜10:05 開会挨拶

10:05〜11:00 1. 高分子ブロック共重合体を用いたDSAリソグラフィの現状と課題
        (EIDEC)東   司

11:00〜11:55 2. 光造形用UV硬化樹脂の特性と応用事例
        (JSR)高瀬 勝行

13:30〜14:25 3. EUVリソグラフィーの現状と実用化に向けて
        (兵庫県大高度産研)渡邊 健夫

14:25〜15:20 4. ナノインプリントリソグラフィの現状と今後の展望
        (大阪府立大)平井 義彦

15:20〜16:15 5. 生物模倣技術の現状と実用化に向けて
        (立命館大)西野 朋季

16:15〜16:20 閉会挨拶


受付期間 2016年11月04日〜2017年01月25日
参加要領 1) 定員 80名
2) 参加費
 企業 14,040円、大学・官公庁 5,400円、学生 2,160円
 名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シニア会員 2,160円
 (印刷・情報記録・表示研究会メンバーおよび光反応・電子用材料研究会メンバー 企業10,800円、大学・官公庁4,320円)
3) 申込方法 WEBにてお申込の上、参加費を1月末日までにご送金ください。
       参加証、請求書(希望者のみ)を順次配布いたします。
4) 振込先
 銀行振込<三菱東京UFJ銀行 銀座支店 (普通) 1126232 公益社団法人 高分子学会>
 郵便振替<00110-6-111688 公益社団法人 高分子学会>
  ※振込手数料は振込人にてご負担くださいますようお願いいたします。

※プログラムは予告なく変更になる場合がございます。予めご了承ください。