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2010年度印刷・情報記録・表示研究会講座
印刷技術の最近の話題とR2Rを中心とした薄膜プロセス技術と材料物性
趣旨 研究会は、産学官のメンバーからなり、幅広いネットワークを活用して、印刷、コーティングやフォトリソグラフィー、微細加工技術、また、高分子の加工等のプロセス技術やそれらの有機電子デバイスプロセスへの応用などをテーマとして、高分子を中心に、材料、プロセス、材料物性などの幅広い分野の研究者が集い、勉強や研究発表、討論や意見交換を行う場を提供しております。本年度も以下の内容で恒例の講座を開催したします。
今回の講座では、最近の印刷技術の進歩とRole-to-Role(R2R)技術による同時多層薄膜の形成技術を取り上げます。印刷技術に関する内容は、グラオフ技術の有機ELパネルの作製への応用と新聞印刷における最近の新しいビジネスモデルについてのホットな話題です。今回、取り上げるもう一つのトピックスは、R2R技術による同時多層コート技術を用いた機能性薄膜の作製とその材料物性についてです。ここでは、現在、実用化されている多層薄膜形成技術の幾つかの具体的な技術について、その技術内容の紹介と形成される膜の機能や材料特性について、各技術に精通された第一線で活躍されている先生方に分かりやすく講演をしていただきます。研究会の会員外の方も奮って、ご参加下さい。
主催 高分子学会 印刷・情報記録・表示研究会
協賛 <予定>紙パルプ技術協会 色材協会 日本化学会 日本印刷学会 日本写真学会 日本木材学会 画像電子学会 日本画像学会
開催日 2011年02月14日 09:55〜17:05
開催場所 東京大学弥生講堂
東京都文京区弥生1-1-1 東京大学農学部内

Tel:03-5841-8205
交通 東京メトロ 南北線 東大前駅 徒歩1分 /千代田線 根津駅 徒歩8分
プログラム <9:55-10:00>
開会の辞
<10:00−10:55>
1)有機ELパネルへの印刷技術の応用  (大日本印刷)武田 利彦
<11:00−11:55>
2)溶融押出し法による超多層積層技術 (フィルム新技術研究所)綱島 研二
<13:00−13:55>
3)新聞の付加価値を追求した印刷技術とビジネスモデル
(産経新聞)松浦 康成、塚本 降仁
<14:00−14:55>
4)多層光学フィルムによるLCD高輝度化技術 (住友スリーエム)佐野 興一
<15:10−16:05>
5)写真フィルム等における多層薄膜同時形成R2R技術 (富士フイルム)宮本 公明
<16:10−17:05>
6) Printed Intelligence (VTT Technical Research Center of Finland)Dr.Hast
<17:10−17:40>
7)名刺交換会
受付期間 2010年11月09日〜2011年02月10日
参加要領 1)定員200名
2)参加費(税込)@企業 13,650円 A大学・官公庁 5,250円 B学生2,100円
         C名誉・終身・フェロー・ゴールド・シルバー会員2,100円
         D印刷・情報記録・表示研究会メンバー
          a)企業 10,500円 b) 大学・官公庁 4,200円

3)申込方法 Webでお申込み後、参加費を2月末日までにご送金ください。参加証、請
      求書(希望者のみ)を順次送付させていただきます。
4)振込先 銀行振込<三菱東京UFJ銀行 銀座支店 (普通) 1126232 (社)高分子学会>
     郵便振込<00110-6-111688 (社)高分子学会>
 振込手数料は振込人にてご負担下さいますようお願いいたします。
 銀行・郵便振替の領収書をもって本会からの領収書にかえさせていただきます。

5)その他:演題・講演者は予告なく変更になる場合がございます。予めご了承下さい。

問合せ先 (社)高分子学会 印刷・情報記録・表示研究会係
〒104-0042 東京都中央区入船3-10-9 新富町ビル6F
TEL 03-5540-3771  FAX 03-5540-3737

※Webでのお申し込みは2月10日(木)午前までとさせていただきます。以降は上記宛お問い合わせ下さい。