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第20回光反応・電子用材料研究会講座
先端リソグラフィの展望
趣旨 半導体の進歩に必須である加工の微細化は、露光波長の短波長化と高NA化によりこれまで順調に進展してきました。今後の更なる微細化においては、どこまで微細加工が可能なのかという観点における候補技術の完成度・経済性のみならず、その技術の完成時期をも考慮されてゆく状況となっています。他方、従来型トップダウンリソグラフィに変わりうる代替技術も精力的に検討されています。そこで本講座では、従来リソグラフィ技術を材料面・プロセス面からレビューしつつ、最新の研究状況を各分野の専門の先生方にご講演いただく予定です。
主催 高分子学会 光反応・電子用材料研究会
協賛 日本化学会 応用物理学会
開催日 2011年01月19日 10:00〜16:50
開催場所 東京工業大学大岡山キャンパス西9号館ディジタル多目的ホール
目黒区大岡山2-12-1

交通 東急目黒線・東急大井町線 大岡山駅下車 徒歩3分 
 (http://www.titech.ac.jp/about/campus/index.html参照)
プログラム 10:00〜10:10 開会挨拶
10:10〜11:00 1.【基調講演】先端リソグラフィ用レジスト開発の現状と今後の展望
              (大阪大学名誉教授)田川 精一
11:00〜11:50 2. EUVLの量産に向けた技術検証
              (東芝)伊藤 信一
13:00〜13:50 3. EUVレジストおよびプロセスの現況
              (半導体先端テクノロジーズ)老泉 博明
13:50〜14:40 4. レジストポリマー鎖でモデル化した
         リソグラフィープロセスシミュレーション
              (産業技術総合研究所)森田 裕史
15:00〜15:50 5. ナノインプリントのアプリケーション
              (兵庫県立大学高度産業科学技術研究所)松井 真二
15:50〜16:40 6. 高分子ブロック共重合体のDirected Self-assembly
         とリソグラフィーへの応用
              (日立製作所)吉田 博史

16:40〜16:50 閉会挨拶


受付期間 2010年09月10日〜2011年01月18日
参加要領 1) 定員 100名
2) 参加費 企業 13,650円、大学・官公庁 5,250円、学生 2,100円
    名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シルバー会員 2,100円
    (光反応・電子用材料研究会メンバー 企業10,500円、大学・官公庁4,200円)
3) 申込方法 WEBからお申込後、参加費を1月末日までにご送金ください。
       参加証、請求書(希望者のみ)を順次配布いたします。
4) 振込先
    銀行振込<三菱東京UFJ銀行 銀座支店 (普通) 1126232 (社)高分子学会>
    郵便振替<00110-6-111688 (社)高分子学会>
    振込手数料は振込人にてご負担くださいますようお願いいたします。

※プログラムは予告なく変更になる場合がございます。予めご了承下さい。