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第22回高分子エレクトロニクス研究会講座
プロセスから見た有機エレクトロニクス材料・デバイス
趣旨 近年リソグラフィに代わり、インクジェットやナノインプリントなどのパターン形成技術が急速に進展し、有機材料のもつフレキシブルな性質を、デバイス機能やプロセスに活かす取り組みが活発化している。最近では有機ディスプレイや有機トランジスタなどの有機デバイスへの期待感から、多くの魅力的な有機エレクトロニクス材料が見出され、それに適したプロセス開発は、エレクトロニクスデバイスの未踏領域を切り開く大きな契機となっている。このような背景から、本講座は、有機エレクトロニクスの研究・開発を行う研究者や学際を対象とし、プロセス技術から有機エレクトロニクスを俯瞰し、有機エレクトロニクスのブレークスルーを創造する端緒としたい。

主催 高分子学会  高分子エレクトロニクス研究会
協賛 応用物理学会、化学工学会、画像電子学会、電気学会、電気化学会、電子情報通信学会、 日本印刷学会、日本化学会、(予定)
開催日 2007年11月21日〜2007年11月22日
開催場所 上智大学中央図書館棟9階921会議室
千代田区紀尾井町7-1

交通 JR中央線、地下鉄丸ノ内線・南北線とも「四谷駅」下車 徒歩5分
プログラム 第1日=11月21日(水) <10:00〜 16:15>
10:05〜10:55 1) 高分子エレクトロニクスとプロセス
               (名古屋大学工学研究科)森 竜雄
10:55〜11:45 2) 有機半導体デバイスの信頼性と作製プロセス
               (北陸先端科学技術大学院大学)村田英幸
12:45〜13:35 3) オールウェットプロセスによる有機EL素子の検討
               (大阪大学先端科学イノベーションセンター)梶井博武
13:35〜14:25 4) エレクトロスプレーデポジション法による
          有機/生体高分子のマイクロパターニング
               (理化学研究所)山形 豊
14:35〜15:25 5) ナノインプリントとデバイス技術  
               (日立製作所)宮内昭浩
15:25〜16:15 6) 摩擦転写法と蒸気輸送法を利用した有機デバイス作製
               (産業技術総合研究所光技術研究部門)谷垣宣孝


第2日=11月22日(木) <10:05〜 16:15>

10:05〜10:55 7) プリンタブルエレクトロニクスのプロセス技術
               (凸版印刷)中村隆一
10:55〜11:45 8) 液体プロセス有機薄膜トランジスタ
               (旭化成)南方 尚
12:45〜13:35 9) 液体プロセスを用いたシリコン薄膜トランジスタ
               (セイコーエプソン)古沢昌宏
13:35〜14:25 10)らせん構造高分子を用いた印刷法による
           フレキシブル有機メモリー素子
               (産業技術総合研究所光技術研究部門)植村 聖
14:35〜15:25 11)スクリーン印刷技術とエレクトロニクスへの応用
               (NBC)住田勲勇
15:25〜16:15 12)金属ナノ粒子インクとインクジェット法による応用
               (アルバックコーポレーションセンター)小田正明

受付期間 2007年07月21日〜2007年11月20日
参加要領 1) 定員  100名 
2) 参加費  
  企業 27,300円 大学・官公庁 9,450円 学生/ゴールド・シルバー 3,150円
  (高分子エレクトロニクス研究会メンバー
           会社22,050円、大学・官公庁7,350円)
3) 申込方法
  下記申込用紙に記入し、FAXまたは郵送にて送付の上
  参加費を11月末日までにご送金ください。
  参加証、請求書(希望者のみ)を順次配布いたします。
4) 振込先
  銀行振込<三菱東京UFJ銀行 銀座支店 (普通) 1126232 (社)高分子学会>
  郵便振替<00110-6-111688 (社)高分子学会>
  振込手数料は振込人にてご負担くださいますようお願いいたします。
※プログラムは予告なく変更になる場合がございます。予めご了承下さい。

問合先 (社)高分子学会 高分子エレクトロニクス研究会講座係
〒104-0042 東京都中央区入船3-10-9 新富町ビル6F
TEL03-5540-3771 FAX03-5540-3737