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16-1印刷・情報記録・表示研究会および16-1光反応・電子用材料研究会 合同研究会
インプリント技術・材料とデバイス作製
趣旨 印刷技術の一種であるインプリント技術は、ロールツーロール法による低コスト大量生産やプロセス・装置簡略化による費用削減の利点を有しているばかりではなく、極限的な微細構造や3次元構造を形成する手法としての可能性も有しています。そこで今回は、インプリント技術やそれで作製されるデバイスシステムに関する研究会を企画しました。高分子材料の関連したインプリント技術の領域で研究開発を進めておられる第一線の講師の先生方をお招きし、最新の研究動向や研究成果についてご講演いただきます。研究会に所属の皆様、ならびに関連の分野で興味をお持ちの皆様の多数のご来聴をお待ちしております。

主催 高分子学会 印刷・情報記録・表示研究会および光反応・電子用材料研究会
開催日 2016年06月27日 12:55〜17:05
開催場所 産業技術総合研究所 臨海副都心センター 別館11階 会議室1
江東区青海二丁目4番7号4-2-2
http://unit.aist.go.jp/waterfront/
Tel:03-3599-8001
交通 新交通ゆりかもめ「船の科学館駅」「テレコムセンター駅」下車徒歩約4分、東京臨海高速鉄道りんかい線「東京テレポート駅」下車徒歩約15分
プログラム <12:55−13:00>
開会挨拶
<13:00−13:55> 
1) 樹脂レプリカモールドを用いたロールナノインプリント技術
     (東理大基礎工)谷口 淳
<13:55−14:50>
2) ロールツーロールUVナノインプリントプロセスにおけるプロセス条件が
  樹脂の反応率、弾性率及び離型性に与える影響
     (金沢大理工)瀧 健太郎
<15:10−16:05>
3) 乾燥・付着性を制御した微細印刷技術とエレクトロニクス応用
     (産総研)日下 靖之
<16:05−17:00>
4) インプリント技術とMEMSを組み合わせた各種応用デバイスの作製
     (早大ナノ・ライフ創新研究機構)水野 潤
<17:00−17:05>
閉会挨拶
受付期間 2016年03月30日〜2016年06月24日
参加要領 1)定員80名(定員になり次第、締め切らせていただきます。)
2)参加費(税込)
 @企業 3,240円 A大学・官公庁2,160円 B学生 1,080円
 C名誉・終身・フェロー・ゴールド・シニア会員 1,080円 
 D印刷・情報記録・表示研究会メンバーおよび光反応・電子用材料研究会メンバー 無料
3)申込方法
 Webでお申込み後、参加費を6月末日までにご送金ください。
 参加証、請求書(希望者のみ)を順次送付させていただきます。
4)振込先
 銀行振込<三菱東京UFJ銀行 銀座支店 (普通) 1126232 公益社団法人 高分子学会>
 郵便振込<00110-6-111688 公益社団法人 高分子学会>
 ※振込手数料は振込人にてご負担下さいますようお願いいたします。
 ※銀行・郵便振替の領収書をもって本会からの領収書にかえさせていただきます。

申込先 
高分子学会 16-1印刷・情報記録・表示研究会および16-1光反応・電子用材料研究会 合同研究会係
〒104-0042 東京都中央区入船3-10-9 新富町ビル6F
TEL 03-5540-3771  FAX 03-5540-3737

※Webでのお申し込みは6月23日(木)までとさせていただきます。
 以降は上記宛お問い合わせください。