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第25回光反応・電子用材料研究会講座
次世代の微細加工技術 〜更なる高密度化を目指して〜
趣旨 高度情報化社会に突入し、「ビックデータ」の高速処理・解析があらゆる分野に適用されつつある現在、電子デバイスには、これまでの微細化限界を超えた高密度化が求められています。本講座では、従来のリソグラフィー法に代わる次世代技術に焦点を当てて、基礎開発から実用化までの各領域で研究を進めておられる講師の先生方をお招きし、最新の成果と今後の課題をご講演頂きます。多くの皆様の御参加をお待ちいたしております。

主催 高分子学会 光反応・電子用材料研究会
協賛 日本化学会 応用物理学会
開催日 2016年01月20日 10:00〜16:55
開催場所 東京理科大学 森戸記念館 B1F 第一フォーラム
新宿区神楽坂4-2-2

Tel:03-5228-8110
交通 JR総武線/東京メトロ有楽町線・東西線・南北線/都営大江戸線「飯田橋」駅下車徒歩3分
プログラム 10:00〜10:05 開会挨拶

10:05〜11:00 1. High-χ系ブロック共重合体の材料設計と配向制御
              (東工大院理工・JSTさきがけ)早川 晃鏡

11:00〜11:55 2. 誘導自己組織化ブロックコポリマーを用いた分子転写法の開発
              (東レ)井上武治郎

13:00〜13:55 3. 半導体プロセス向けDSA材料の実用化に向けて
              (JSR)永井 智樹

13:55〜14:50 4. 兵庫県立大学におけるEUVレジスト評価系の開発
              (兵庫県大高度産研)渡邊 健夫

15:00〜15:55 5. ナノインプリントリソグラフィの現状と界面機能分子制御
              (東北大多元研)中川  勝

15:55〜16:50 6. モルフォ蝶の微細構造をまねた構造色製品
              (帝人)広瀬 治子

16:50〜16:55 閉会挨拶


受付期間 2015年10月20日〜2016年01月19日
参加要領 1) 定員 80名
2) 参加費
 企業 14,040円、大学・官公庁 5,400円、学生 2,160円
 名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シニア会員 2,160円
 (光反応・電子用材料研究会メンバー 企業10,800円、大学・官公庁4,320円)
3) 申込方法 WEBにてお申込の上、参加費を1月末日までにご送金ください。
       参加証、請求書(希望者のみ)を順次配布いたします。
4) 振込先
 銀行振込<三菱東京UFJ銀行 銀座支店 (普通) 1126232 公益社団法人 高分子学会>
 郵便振替<00110-6-111688 公益社団法人 高分子学会>
  ※振込手数料は振込人にてご負担くださいますようお願いいたします。

※プログラムは予告なく変更になる場合がございます。予めご了承ください。